レーザーアブレーションシステム(L/A)
製品概要固体ターゲットにパルスレーザーを照射して数nmから数10nmのナノ粒子を生成させる技術です。減圧雰囲気中で基板への成膜、また流動化している粒子に対してのコーティングも可能です。また、任意の溶媒中でナノ粒子の分散したサスペンションを調製することも可能です。金属やセラミックス材料など無機物はもちろんのこと、医薬品、高分子などの有機化合物もレーザー波長や出力の制御により、処理可能です。
適用例
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特長 |
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仕様
レーザー波長 | 266-1064nm |
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レーザー出力 | Max. 100J/cm2 |
繰り返し周波数 | Max. 10Hz |
減圧度 | 10-5Pa |
ターゲット和 | 1度に4つまで取り付け可能 |
付属機器 | 基盤回転装置、粉体加振機、膜厚計、液相キット |
上記形式以外につきましても、ご要望に応じて設計制作致します。
メーカー側のなんらの債務も伴わずに仕様と機器を変更することがあります。