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レーザーアブレーションシステム(L/A)

製品概要

固体ターゲットにパルスレーザーを照射して数nmから数10nmのナノ粒子を生成させる技術です。減圧雰囲気中で基板への成膜、また流動化している粒子に対してのコーティングも可能です。また、任意の溶媒中でナノ粒子の分散したサスペンションを調製することも可能です。金属やセラミックス材料など無機物はもちろんのこと、医薬品、高分子などの有機化合物もレーザー波長や出力の制御により、処理可能です。

適用例

  • センサー用金属ナノ粒子
  • リチウム電池電極材
  • 燃料電池用合金
  • 難水溶性薬物
  • 摺動部材
  • 磁性材料
  • 光学材料
  • 耐磨耗コーティング
  • 発光材料
  • 生体材料
  • 表面濡れ性制御

特長
  • 金属からタンパク質まであらゆる物質のナノ粒子化が可能なため、応用範囲も広く汎用性が非常に高い技術です。
  • 基板への成膜、または微粒子表面へのコーティングが可能です。
  • 液相での処理によりナノサスペンションの調製が可能です。
  • 数ナノオーダーの粒子あるいは薄膜が調製可能で、新素材の研究開発には最適です。
  • お客様のニーズに合わせてオーダーメイドで設計可能です。

仕様

レーザー波長 266-1064nm
レーザー出力 Max. 100J/cm2
繰り返し周波数 Max. 10Hz
減圧度 10-5Pa
ターゲット和 1度に4つまで取り付け可能
付属機器 基盤回転装置、粉体加振機、膜厚計、液相キット
上記形式以外につきましても、ご要望に応じて設計制作致します。
メーカー側のなんらの債務も伴わずに仕様と機器を変更することがあります。

参考